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    在半導體生產和制藥工業中, 對空氣的潔凈度要求較高。典型的工作環境中, 每立方英尺空氣中含有500000個粒子, 而半導體生產的最新要求是每立方英尺空氣中只有1 個粒子。因此, 工作間需要用經過高效過濾器過濾的潔凈空氣不斷地循環清洗。為保持HEPA 過濾器的潔凈和壽命, 還需要幾段效率較低的預濾器聯合使用。